光罩對準機

本儀器型號為 Q-6000，高解析度光罩對準之系統 解像接近1 mm，採用U-V 光源，適合各式樣片，尺寸最大為6吋晶圓。操作模式具有 (1) pressure contact  (2)Vacuum Contact  (3) Proximity Calibration  (4) Mask Deflection。

服務項目

配合潔淨室之使用提供光蝕刻之實驗，可做半導體製程中曝光製程之用。

試片應注意事項

由熟悉該儀器之同學先行帶領，經過合格。

收費標準

2000元 / 1小時

聯絡方式  指導教授：朱安國教授，工學院光電所

                 TEL：(07)5252000 ext. 4456

                 聯絡人：王宗新

                 TEL：(07)5252000 ext. 4466